Controlador y medidor másico serie GF080

Los modelos GF80 y GF81 son controladores y medidores de caudal másico térmico digitales con sellado metálico. Incorporan la tecnología patentada MultiFlo™, capaz de reconfigurar el instrumento para distintos gases y rangos de medición sin desmontar el equipo ni recalibrarlo físicamente.

El sensor está fabricado en Hastelloy C-22, ofreciendo alta resistencia a la corrosión, estabilidad a largo plazo y tiempos de estabilización inferiores a 1 segundo.

Principales características

Tecnología MultiFlo™ (GF80)

• Configuración para miles de combinaciones de gases y rangos de caudal.

• Reprogramación de gas y rango en menos de 60 segundos.

• Generación automática de nuevas curvas de calibración.

• Ajuste automático de parámetros PID.

• Compensación de efectos de densidad y viscosidad.

• Posibilidad de reducir la escala máxima hasta una relación típica de 3:1 sin afectar precisión ni especificaciones de fuga.

Sensor térmico

• Sensor de respuesta rápida de tercera generación.

• Mejora de la relación señal/ruido.

• Compensación automática de temperatura ambiente.

• Alta estabilidad a largo plazo (< ±0,5 % FS/año).

• Tubo sensor de Hastelloy C-22.

• Optimizado para gases susceptibles a descomposición térmica.

Diagnóstico

• Puerto de servicio y diagnóstico independiente RS485.

• Autodiagnóstico integrado.

• Monitoreo de estado de sensor y válvula.

• Detección de sobretemperatura.

• Detección de fallas de comunicación.

• Supervisión de variaciones de alimentación eléctrica.

Especificaciones mecánicas

Materiales mojados

GF80

• Acero inoxidable 316

• Hastelloy C-22

• Acero 17-7 PH

• Acero inoxidable 430

GF81

• Acero inoxidable 316

• Hastelloy C-22

• KM45

Sellos

• Sellos externos metálicos de acero inoxidable 316.

• Sellos internos y asiento de válvula metálicos de acero inoxidable 316.

Configuración de válvula

• Normalmente cerrada (NC).

• Disponible versión medidor sin válvula (MFM).

Acabado superficial

• 16 µin Ra.

Especificaciones de desempeño

Capacidad MultiFlo

• GF80: disponible.

• GF81: no disponible.

Número de bins

• GF80: 11 bins.

• GF81: 4 bins.

Fuga de cierre de válvula

• GF80: <1% FS.

• GF81: <4% FS a 30 psig.

Coeficiente de presión

• 0,03% por psi (0-50 psi N₂).

Sensibilidad a orientación

• Cambio de span <0,25% después de reajuste de cero a 90°.

Gases disponibles

Configuraciones estándar para:

• N₂

• H₂

• Ar

• He

• O₂

• NH₃

Otros gases disponibles bajo pedido.

Condiciones de operación

Temperatura

• 5 °C a 50 °C.

Presión máxima de operación

GF80

• 150 psig (10 bar).

GF81

• Controlador: 75 psig (5 bar).

• Medidor: 150 psig (10 bar).

Presión diferencial requerida (GF80)

• 3 a 860 sccm: 7-45 psid.

• 861 a 7200 sccm: 15-45 psid.

• 7201 a 50000 sccm: 25-45 psid.

Para aplicaciones con argón u otros gases de alta densidad puede requerirse aproximadamente 10 psid adicionales.

Hermeticidad externa

• 1 × 10⁻¹⁰ atm·cc/s He.

Comunicaciones

Protocolos soportados:

• RS485 (S-Protocol, L-Protocol y A-Protocol).

• Profibus.

• DeviceNet.

• EtherCAT (solo GF80).

Entradas y salidas analógicas

Entrada de consigna

• 0-5 V

• 0-10 V

• 0-20 mA

• 4-20 mA

Salida de caudal

• 0-5 V

• 0-10 V

• 0-20 mA

• 4-20 mA

Salida de alarma

• Tipo colector abierto (Open Collector).

• Corriente máxima: 25 mA.

• Tensión máxima: 30 Vdc.

Consumo eléctrico

GF80

• Potencia normal: 7 W a 13,6 W según configuración.

• Potencia máxima en purga: hasta 15 W.

GF81

• Potencia normal: 3,3 W.

• Potencia máxima en purga: 10,2 W.

Funciones automáticas

Auto Zero

• Corrección automática de cero cuando el setpoint vuelve a cero.

Auto Shut-Off

• GF80: cierre automático por debajo del 1,5% FS.

• GF81: cierre automático por debajo del 2% FS.

Aplicaciones típicas

• Procesos de vacío.

• Hornos de difusión.

• CVD (Chemical Vapor Deposition).

• Fabricación de células solares.

• Procesos de plasma.

• Nanotecnología.

• Recubrimiento de metales y vidrio.

• Bioreactores.

• Laboratorios de I+D.

• Sistemas de distribución de gases de alta pureza.