Coriolis para medición y control de caudal serie Quantim

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Descripción del Producto

La serie Quantim® de Brooks Instrument es una familia de caudalímetros y controladores de caudal másico por efecto Coriolis diseñada para aplicaciones de muy bajo caudal, tanto en líquidos como en gases. Integra en un mismo equipo el sensor Coriolis, la electrónica de medición y, opcionalmente, una válvula de control con PID incorporado.

Principio de medición

  • Medición directa de caudal másico mediante tecnología Coriolis.
  • Independiente del tipo de fluido y de las condiciones del proceso.
  • Permite medir simultáneamente:
    • Caudal másico.
    • Caudal volumétrico.
    • Densidad.
    • Temperatura.

Rango de medición

Controladores (QMBC)

Tamaño de tuboLíquidos (kg/h)Gases (kg/h)Gases (sccm)
20,150,0761.051
30,780,2142.955
47,971,79624.787

Medidores (QMBM)

Tamaño de tuboLíquidos (kg/h)Gases (kg/h)Gases (sccm)
20,190,1031.432
31,000,4055.595
413,53,8453.116

Caudal mínimo medible

TamañoLíquidos (kg/h)
20,001
30,010
40,100

Exactitud y estabilidad

Exactitud de caudal

Sensor de acero inoxidable 316L

  • Líquidos: ±0,2 % de la lectura.
  • Gases: ±0,5 % de la lectura.

Sensor Alloy C-22 (Hastelloy)

  • Líquidos: ±0,5 % de la lectura.
  • Gases: ±0,5 % de la lectura.

Repetibilidad y reproducibilidad

  • ±0,05 % de la lectura o:
    • ±[0,5 × (estabilidad de cero / caudal) × 100] % de la lectura.
  • Se adopta el valor más alto.

Estabilidad de cero

TamañoAcero inoxidable (kg/h)Alloy C-22 (kg/h)
20,000260,0004
30,00200,0030
40,01200,0240

Tiempo de respuesta

Controladores QMBC

  • Sensor de acero inoxidable: < 2 s.
  • Sensor Alloy C-22: < 12 s.

Medidores QMBM

  • < 0,5 s.

Variables medidas

Temperatura

  • Rango operativo: 0 a 60 °C.
  • Exactitud: ±0,5 °C.

Densidad

  • Rangos:
    • 0 a 0,3 g/cm³.
    • 0,5 a 2,0 g/cm³.
  • Exactitud: ±0,005 g/cm³.

Presión

Presión diferencial requerida

  • Líquidos: 10 a 200 psi.
  • Gases: 10 a 150 psi.

Presión máxima de operación

  • Estándar: 500 psi (35 bar).
  • Opcional: 1.500 psi (100 bar).
  • Opcional alta presión: 4.500 psi (300 bar).

Materiales de construcción

Partes mojadas

  • Acero inoxidable 316L.
  • 316L VAR.
  • Acero inoxidable ferrítico de alta aleación.
  • 17-7PH.
  • Opción: tubo sensor Alloy C-22.

Sellos disponibles

  • Viton.
  • Buna.
  • Kalrez 4079.
  • Kalrez 6375.
  • EPDM.
  • Níquel.

Válvula de control

  • Integrada o remota.
  • Normalmente cerrada.
  • Tiempo de respuesta típico: < 400 ms.
  • Fuga máxima: < 0,2 % del fondo de escala.
  • Control PID integrado.

Señales y alimentación

Salidas analógicas

  • 4-20 mA.
  • 0-5 Vdc.

Variables transmisibles:

  • Caudal másico.
  • Caudal volumétrico.
  • Densidad.
  • Temperatura.

Entradas

  • Setpoint mediante:
    • 4-20 mA.
    • 0-5 Vdc.

Alimentación

  • 14 a 27 Vdc.
Consumo típico
  • Controlador: 300 a 400 mA.
  • Medidor: 100 a 150 mA.
Potencia máxima
  • Controlador: 10 W.
  • Medidor: 6,6 W.

Diagnósticos y alarmas

Monitoreo de:

  • Caudal másico.
  • Caudal volumétrico.
  • Densidad.
  • Temperatura.
  • Flujo bifásico (slug flow).
  • Fallas de diagnóstico.
  • Desvío de setpoint.
  • Estado de la válvula.

Indicadores:

  • LED de estado (verde).
  • LED de alarma (rojo).
  • Botón de ajuste de cero (ZERO).

Grados de protección

IP40

  • Aplicaciones industriales generales.

IP66

  • Protección contra agua y polvo.
  • Uso en áreas clasificadas Div. 2 / Zona 2.

IP66XP

  • Construcción antideflagrante.
  • Uso en áreas clasificadas Div. 1 / Zona 1.

Conexiones de proceso

Disponibles en:

  • Compresión para tubo de 1/16″.
  • Compresión para tubo de 1/8″.
  • Compresión para tubo de 1/4″.
  • Compresión para tubo de 6 mm.
  • NPT 1/8″.
  • NPT 1/4″.
  • VCR.
  • VCO.
  • Downport ANSI/ISA 76.00.02.
  • UPG 3,2 mm.

Peso

  • IP40: 1,6 kg.
  • IP66: 1,9 kg.
  • IP66XP: 24 kg.

Aplicaciones típicas

  • Investigación y desarrollo de catalizadores.
  • Dosificación de reactivos de alta precisión.
  • Procesos de coating y recubrimientos de precisión.
  • CVD (Chemical Vapor Deposition).
  • ALD (Atomic Layer Deposition).
  • Procesos de vacío.
  • Sistemas de inyección de precursores líquidos.
  • Aplicaciones de laboratorio y plantas piloto.
  • Control de líquidos y gases de muy bajo caudal.